正泰智寰相关研究成果以InSituTEMObservationofCrystalStructureTransformationinInAsNanowiresonAtomicScale为题发表于NanoLetters杂志。

因此，电器作者认为非晶区的一些Mo原子与S原子反应形成了有序结构，而另一些原子扩散到纳米孔中重建晶格。南存MoS2和碲化铋Bi2Te3是二维硫族化物采用的两种最常见的结构类型。

绿色、辉辞蓝色、紫色和红色圆圈分别标记被三、四、五和六通道包围的位置。可以预见，司总司总原位透射电子显微技术在今后的材料研究中必定会发挥更重要的作用。裁职裁(a)25摄氏度和(b)310摄氏度的图像。

任张HRTEM图片下方是相应的结构图。正泰智寰相关研究成果以InSituRepairof2DChalcogenidesunderElectronBeamIrradiation为题发表于AdvancedMaterials杂志。

电器图1原位TEM表征(a)-(c)透射电镜图像显示锂化过程中双层石墨烯之间形成的Li的传播前沿（白色虚线）。

在此期间，南存左侧部分处于愈合过程。辉辞Zn2+的掺杂量决定了氧hole的不同局部构型。

（f）1.5Vvs.RHE电位下的Zn0.1Co0.9OOH，司总司总Zn0.2Co0.8OOH和CoOOH的电流密度与pH的关系。（d，裁职裁e）ZnxCo1-xOOH的EXAFSk2χ（k）傅里叶变换（FT）谱（d）和归一化钴K-边XANES谱（e）。

任张（c）在Zn0.2Co0.8O2上的发生LOM和AEM的各个吸附中间体的吸附构型。（d）在1MKOH和TMAOH（分别溶解在水和重水）中，正泰智寰Zn0.2Co0.8OOH的极化曲线及其Tafel斜率图。